粘在门上的胶怎么去掉_粘在门上的胶怎么去掉小技巧

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...去除半导体衬底的边缘区域上的光刻胶膜或光刻胶图案的边缘球状物所述湿式显影装置被配置为使用显影液来去除不必要的区域,所述干式显影装置被配置为使用显影气体来去除不必要的区域;清洁装置,包括清洁室并且被配置为去除在半导体衬底的边缘区域上的光刻胶膜或光刻胶图案的边缘球状物;以及加热装置,被配置为加热光刻胶膜或光刻胶图案。本说完了。

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...治具专利,能有效防止石英腔体与光刻胶去除设备的腔体的内壁发生碰撞治具将待安装的石英腔体安装在光刻胶去除设备的腔体中;治具包括下盖、连接机构、上盖和握把;下盖和连接机构的一端可拆卸式连接;上盖和连接机构的另一端可拆卸式连接;握把设置在上盖远离连接机构的一侧;石英腔体固定在下盖和上盖之间,石英腔体的下端和下盖相配合,石英腔体的等会说。

蓝箭电子申请封装件表面溢胶去除装置专利,提高了溢胶去除效率金融界2023年11月26日消息,据国家知识产权局公告,佛山市蓝箭电子股份有限公司申请一项名为“封装件表面溢胶去除装置”,公开号CN117103551A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本发明涉及半导体工艺技术领域,提供了封装件表面溢胶去除装置,通过上料机构实现封装件的自等会说。

国林科技:公司电子级超纯臭氧气体发生器可被广泛用于光刻胶去除和...南方财经5月30日电,有投资者问,请问公司在光刻胶和光刻机方面有哪些技术和产品?国林科技在互动平台表示,公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧,臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应还有呢?

盛美上海申请光刻胶剥离技术专利,提高了生产良率本申请涉及一种针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法和系统。其中,该针对晶圆上芯片工艺的光刻胶剥离方法包括:对待进行光刻胶去除的晶圆进行润湿;控制待进行光刻胶去除的晶圆的转速在30RPM至200RPM范围内,并对润湿之后的待进行光刻胶去除的晶圆施加第一预设时间的兆声说完了。

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晶合集成获得实用新型专利授权:“一种石英腔体的安装治具”证券之星消息,根据企查查数据显示晶合集成(688249)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种石英腔体的安装治具”,专利申请号为CN202323255551.6,授权日为2024年6月18日。专利摘要:本实用新型提供了一种石英腔体的安装治具,治具将待安装的石英腔体安装在光刻胶去除设小发猫。

兴欣新材:N-羟乙基哌嗪是光刻胶剥离液成分,无水哌嗪是喹诺酮类药物...金融界12月26日消息,有投资者在互动平台向兴欣新材提问:公司的N-羟乙基哌嗪跟无水哌嗪是什么东西啊?有什么作用?看起来蛮高大上的公司回答表示:公司的N-羟乙基哌嗪是光刻胶剥离液的重要成分。在LCD和OLED面板制程中,用于清除面板上残留的光刻胶;是生物缓冲液的特种化等我继续说。

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芯源微申请膜层剥离方法专利,有利于提高产品质量包括如下步骤:提供在光刻胶层上形成有待剥离膜层的晶圆;从所述晶圆上去除所述光刻胶层,使所述待剥离膜层贴附于所述晶圆;使用喷嘴向所述晶圆喷洒溶液,使所述待剥离膜层剥离于所述晶圆;其中,所述溶液的喷洒方向与所述晶圆表面之间的夹角大于等于45°且小于90°,使所述待剥离等会说。

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